封じきりC_8F_<18>プラズマCVDによる二層非晶質フッ化炭素膜の間欠堆積
封じきりC_8F_<18>プラズマCVDによる二層非晶質フッ化炭素膜の間欠堆積
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密封C_8F_<18>等离子体CVD间歇沉积两层非晶氟碳薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小池広恵
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山内達也;菅原広剛;(発表者);酒井洋輔;須田善行;小池広恵
