シリコン薄膜の金属誘起固相結晶化における新現象

シリコン薄膜の金属誘起固相結晶化における新現象
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金属诱导硅薄膜固相结晶新现象

DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
日本学術振興会薄膜第131委員会研究会資料 223
影响因子:
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通讯作者:
浅野種正
浅野種正
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Y.Kawazu;T.Watanabe;K.Totani;T.Ogawa;浅野種正

文献摘要

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