Highly Ordered Chevron-Shaped Arrays of Continuous Copper Nano-Dot Lines Formed by Electroless Deposition on Hydrogen-Terminated Si(111) Surfaces
Highly Ordered Chevron-Shaped Arrays of Continuous Copper Nano-Dot Lines Formed by Electroless Deposition on Hydrogen-Terminated Si(111) Surfaces
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通过在氢封端的 Si(111) 表面上化学沉积形成高度有序的连续铜纳米点线 V 形阵列
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tomoyuki Nagai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Takayama;MJ Sato;Y. Arai;T. Yanasida;M. Ueda;佐藤 雅之;佐藤 雅之;Shuji Nakanishi;Tomoyuki Nagai;Shuji Nakanishi;Tomoyuki Nagai
