Metalorganic chemical vapor deposition of β-(Al x Ga 1−x ) 2 O 3 thin films on (001) β-Ga 2 O 3 substrates
Metalorganic chemical vapor deposition of β-(Al x Ga 1−x ) 2 O 3 thin films on (001) β-Ga 2 O 3 substrates
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(001) β-Ga 2 O 3 基底上的金属有机化学气相沉积β-(Al x Ga 1âx ) 2 O 3 薄膜
DOI：
10.1063/5.0142746
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
6.1
通讯作者：
Zhao, Hongping
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Uddin Bhuiyan, A F;Meng, Lingyu;Huang, Hsien-Lien;Sarker, Jith;Chae, Chris;Mazumder, Baishakhi;Hwang, Jinwoo;Zhao, Hongping
