後藤,藤森,椎木ほか: "真空マイクロエレクトロニクス素子のための窒化ジルコニウム薄膜の作製と評価" 真空. 40・3(掲載予定). (1997)
後藤,藤森,椎木ほか: "真空マイクロエレクトロニクス素子のための窒化ジルコニウム薄膜の作製と評価" 真空. 40・3(掲載予定). (1997)
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Goto、Fujimori、Shiiki 等：“真空微电子器件用氮化锆薄膜的制备和评价”真空40・3（待出版）。
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