Oxygen at the interface of CVD diamond films on silicon
Oxygen at the interface of CVD diamond films on silicon
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硅上 CVD 金刚石薄膜界面处的氧
DOI：
10.1016/s0925-9635(99)00104-1
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发表时间：
1999
影响因子：
4.1
通讯作者：
B. Stritzker
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Bergmaier;M. Schreck;G. Dollinger;O. Schmelmer;K. Thürer;B. Stritzker
