ミストCVD 法を用いたGa2O3及びIn2O3成長
ミストCVD 法を用いたGa2O3及びIn2O3成長
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使用雾气 CVD 方法生长 Ga2O3 和 In2O3
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
尾沼猛儀他2名
中科院分区：
文献类型：
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作者：
田沼圭亮;山口智広;尾沼猛儀他2名
