Stoichiometric growth of polycrystalline C3N4 thin films
Stoichiometric growth of polycrystalline C3N4 thin films
复制标题
多晶C3N4薄膜的化学计量生长
DOI：
10.1016/0009-2614(95)01209-7
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发表时间：
1995
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Guo‐zhen Yang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yin;Ze;S. Xie;Guo‐zhen Yang
