Dependence of catalytic properties of indium-implanted SiO_2 thin films on the energy and dose of incident indium ions
Dependence of catalytic properties of indium-implanted SiO_2 thin films on the energy and dose of incident indium ions
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注入铟的SiO_2薄膜催化性能对入射铟离子能量和剂量的依赖性
DOI：
10.1016/j.tsf.2012.03.028
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
S. Hamaguchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Yoshimura;M. Kiuchi;Y. Nishimoto;M. Yasuda;A. Baba;S. Hamaguchi
