Modeling the transitions from capacitive to inductive to wave-sustained rf discharges
Modeling the transitions from capacitive to inductive to wave-sustained rf discharges
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模拟从电容到电感再到波持续射频放电的转变
DOI：
10.1051/jp4:1998712
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发表时间：
1998
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
R. Boswell
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Lieberman;R. Boswell
在薄膜处理中使用的射频（rf）等离子体源可以分为三个不同的类别：电容性（E）、电感性（H）和波（W）维持（例如，螺旋）放电。随着激励功率或电压的增加，经常观察到从电容到电感到螺旋放电的转变，在某些情况下表现出滞后。一个模型的开发，以确定这些过渡的基础上，在放电中的电子能量平衡和电容，电感和螺旋电子能量沉积之间的耦合。R6sum6：等离子体射频（rf）源在薄膜加工过程中的应用分为三类：电容放电（E）、感应放电（0）和螺旋放电（CN）。Lorsqu'on augmente la puissance or la tension d'excitation，on observe souvent des transitions de regimes de decharges：capacitives - inductives - helicon.在某些情况下，相变不存在滞后现象。我们开发了一个模型，用于在电容、电感和螺旋之间的放电和耦合中实现部分电子能量的转换。
Radio frequency (rf) plasma sources used in the processing of thin films can be divided into three distinct categories: capacitive (E), inductive (H), and wave (W) -sustained (e.g., helicon) discharges. As the excitation power or voltage is increased, transitions from capacitive to inductive to helicon discharges are often observed, in some cases exhibiting hysteresis. A model is developed to determine these transitions based on the electron energy balance in the discharge and the coupling between capacitive, inductive, and helicon electron energy deposition. R6sum6: Les sources plasma radiofrequence (rf) qu'on utilise dans les processus de films minces peuvent se classer en trois categories : decharges capacitives (E), inductives 0 et entretenues par une onde CN) comme les decharges helicon. Lorsqu'on augmente la puissance ou la tension d'excitation, on observe souvent des transitions de regimes de decharges : capacitives - inductives - helicon. Dans certains cas, ces transitions presentent un hysteresis. Nous developpons un modele pour dderminer ces transitions a partir d'un bilan d'energie electronique dans la decharge et du couplage entre d&& d'energie electronique capacitif, inductif et helicon.