Formation of (111) Nanotwin Lamellae Hillock in Polycrystalline Silicon Thin Films Caused by Deposition of Silicon Dioxide layer
Formation of (111) Nanotwin Lamellae Hillock in Polycrystalline Silicon Thin Films Caused by Deposition of Silicon Dioxide layer
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二氧化硅层沉积引起的多晶硅薄膜中(111)纳米孪晶小丘的形成
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Fujimoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.Imai;M.Fujimoto
