Modification of Electrical Properties and Magnetic Domain Structures in Magnetic Nanostructures by AFM Nano-lithography
Modification of Electrical Properties and Magnetic Domain Structures in Magnetic Nanostructures by AFM Nano-lithography
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通过 AFM 纳米光刻对磁性纳米结构中的电性能和磁畴结构进行改性
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yasushi Takemura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Tsuda;T.Fukami;Y.Kanamaru;T.Miyamoto;Yasushi Takemura
