Fabrication of InP Microhole Arrays by Site-selective Anodic Etching and Subsequent Chemical Etching

Fabrication of InP Microhole Arrays by Site-selective Anodic Etching and Subsequent Chemical Etching
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通过选点阳极蚀刻和后续化学蚀刻制造 InP 微孔阵列

DOI:
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发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
H. Asoh and S. Ono
H. Asoh and S. Ono
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
山田将大;入谷英司;H. Asoh and S. Ono

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