陽極酸化法によるシリコン基板表面の局所化学状態の制御,
陽極酸化法によるシリコン基板表面の局所化学状態の制御,
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通过阳极氧化法控制硅衬底表面的局部化学状态，
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
荻野俊郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Toshio;Ogino;Takahide;Oya;Toshinari;Isono;Takayuki;Ikeda;T. Ogino;荻野俊郎;荻野俊郎;荻野俊郎;荻野俊郎;荻野俊郎
