光電子制御イオンビームと高速中性原子ビームによる基板表面処理の比較
光電子制御イオンビームと高速中性原子ビームによる基板表面処理の比較
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光电控制离子束与快中性原子束基片表面处理的比较
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
阿加賽見,大友悠大,小川修一,高桑雄二
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Ajia;Y. Ohtomo;S. Ogawa;Y. Takakuwa;阿加賽見,大友悠大,小川修一,高桑雄二;阿加賽見,大友悠大,小川修一,高桑雄二
