The structure of Cu-Al films prepared by unbalanced DC magnetron sputtering
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DOI：
10.1016/s0257-8972(97)00357-5
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发表时间：
1997-11
影响因子：
5.4
通讯作者：
J. Musil;A. Bell;M. Čepera;J. Zeman
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Musil;A. Bell;M. Čepera;J. Zeman
