M. Saitou, W. Oshikawa, M. Mori, and A. Makabe: "Surface Roughness in the Growth of Direct Current or Pulse Current Electrodeposited Nickel Thin Films"J. Electrochem. Soc.. 148. C780-C783 (2001)
M. Saitou, W. Oshikawa, M. Mori, and A. Makabe: "Surface Roughness in the Growth of Direct Current or Pulse Current Electrodeposited Nickel Thin Films"J. Electrochem. Soc.. 148. C780-C783 (2001)
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M. Saitou、W. Oshikawa、M. Mori 和 A. Makabe：“直流电或脉冲电流电沉积镍薄膜生长中的表面粗糙度”J。
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