Decoupling of ion‐ and photon‐activation mechanisms in polymer surfaces exposed to low‐temperature plasmas
Decoupling of ion‐ and photon‐activation mechanisms in polymer surfaces exposed to low‐temperature plasmas
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暴露于低温等离子体的聚合物表面的离子和光子激活机制的解耦
DOI：
10.1002/ppap.201700230
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发表时间：
2018
影响因子：
3.5
通讯作者：
A. Keudell
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Budde;C. Corbella;S. Grosse;T. Arcos;G. Grundmeier;A. Keudell
用粒子束实验研究了纯氩离子对聚丙烯（PP）的改性。来自等离子体离子源的UV光子的贡献通过90°扇形场被阻挡。原位FTIR测量表明，由表面石墨化的蚀刻动力学。由于碳氢化合物基质的交联，离子和紫外光子的组合影响对PP蚀刻产生了反协同效应。
The modification of polypropylene (PP) by argon ions only is studied by means of a particle beam experiment. The contribution of UV photons from the plasma ion source is blocked by means of a 90° sector field. In situ FTIR measurements shows an etching dynamics governed by surface graphitization. The combined impact of ions and UV photons yields an anti‐synergistic effect on PP etching due to cross‐linking of the hydrocarbon matrix.
原位 XPS 和 UHVâ 化学力显微镜 (CFM) 相结合研究等离子体诱导的聚丙烯表面氧化
影响因子：
3.5
作者：
B. Ozkaya
通讯作者：
B. Ozkaya