Stress relaxation and optical characterization of TiO2 and SiO2 films grown by dual ion beam deposition
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DOI：
10.1016/j.tsf.2008.06.032
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发表时间：
2008-10
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
C. Bundesmann;Inga‐Maria Eichentopf;S. Mändl;H. Neumann
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. Bundesmann;Inga‐Maria Eichentopf;S. Mändl;H. Neumann
