Fundamentals of Chemical Vapor Deposition of Atomic Layer Materials
Fundamentals of Chemical Vapor Deposition of Atomic Layer Materials
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原子层材料化学气相沉积基础知识
DOI：
10.1380/vss.65.169
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
MARUYAMA Shigeo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
INOUE Taiki;MARUYAMA Shigeo
