エピタキシャルCVD法に基づく高品質二次元材料の創製と応用開発に向けた取り組み
エピタキシャルCVD法に基づく高品質二次元材料の創製と応用開発に向けた取り組み
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致力于基于外延CVD法的高质量二维材料的创造和应用开发
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吾郷浩樹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小山奏汰;都築誠二;下位幸弘;荒井俊人;長谷川達生;松田巌;吾郷浩樹
