High-κ Dielectric Materials for Microelectronics
High-κ Dielectric Materials for Microelectronics
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DOI：
10.1080/714037708
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发表时间：
2003-10
影响因子：
10.8
通讯作者：
R. Wallace;G. Wilk
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Wallace;G. Wilk
本文综述了微电子用高介电常数介质材料的研究现状。特别是，最近的工作影响这些高κ材料的集成栅极电介质和电容器应用在先进的规模微电子器件。
This article reviews the current status of high-κ dielectric materials for microelectronics. In particular, recent work impacting the integration of these high-κ materials for gate dielectric and capacitor applications in advanced scaled microelectronic devices is reviewed.