K.Takenaka, H.J.Jin, M.Onishi, K.Koga, M.Shiratani, Y.Watanabe, T.Shingen: "Conformal deposition of pure Cu films in trenches by H-assisted plasma CYD using Cu(EDMDD)_2"Proc.ESCANPIG16/ICRP5. II-173-Ii-174 (2002)
K.Takenaka, H.J.Jin, M.Onishi, K.Koga, M.Shiratani, Y.Watanabe, T.Shingen: "Conformal deposition of pure Cu films in trenches by H-assisted plasma CYD using Cu(EDMDD)_2"Proc.ESCANPIG16/ICRP5. II-173-Ii-174 (2002)
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K.Takenaka、H.J.Jin、M.Onishi、K.Koga、M.Shiratani、Y.Watanabe、T.Shingen：“使用 Cu(EDMDD)_2 通过 H 辅助等离子体 CYD 在沟槽中保形沉积纯铜薄膜”Proc
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