Surface rippling by oblique ion incidence during plasma etching of silicon: Experimental demonstration using sheath control plates
Surface rippling by oblique ion incidence during plasma etching of silicon: Experimental demonstration using sheath control plates
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硅等离子蚀刻期间倾斜离子入射引起的表面波纹：使用鞘控制板的实验演示
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Kouichi Ono
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Nobuya Nakazaki;Haruka Matsumoto;Koji Eriguchi;and Kouichi Ono
