Fundamental reaction of RT gallium oxide atomic layer deposition investigated by IR absorption spectroscopy
Fundamental reaction of RT gallium oxide atomic layer deposition investigated by IR absorption spectroscopy
复制标题
红外吸收光谱研究 RT 氧化镓原子层沉积的基本反应
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
F. Hirose
中科院分区：
文献类型：
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作者：
P. Pansila;K. Kanomata;B. Ahmmad;S. Kubota;F. Hirose
