H atom-indeed oxidation reaction on water-terminated Si surface, 2H+H_2O/Si(100)-(2x1) : A theoretical study
H atom-indeed oxidation reaction on water-terminated Si surface, 2H+H_2O/Si(100)-(2x1) : A theoretical study
复制标题
水封端Si表面的H原子氧化反应，2H H_2O/Si(100)-(2x1)：理论研究
DOI：
--
复制
发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Kenta Ooi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Hidekazu Watanabe;Zhi-Hong Wang;Shinkoh Nanbu;Jun Maki;Tsuneo Urisu;Mutsumi Aoyagi;Kenta Ooi
