Post-He Plasma Treatment on ZnO Thin Films Fabricated by Atmospheric Pressure Cold Plasma
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复制标题
大气压冷等离子体制备的 ZnO 薄膜的 He 等离子体处理
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Xiaoyuan Ma and Yoshifumi Suzaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.Nakao;H. Kamisaka;Y.Hirose;T.Hasegawa;Xiaoyuan Ma and Yoshifumi Suzaki
