Tatsuo Okada 他: "Characteristics of Plasma-Enhanced Photoemission form Thin Films during Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition" Japanese Journal Applied Physice. 30. L1591-L1593 (1991)
Tatsuo Okada 他: "Characteristics of Plasma-Enhanced Photoemission form Thin Films during Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition" Japanese Journal Applied Physice. 30. L1591-L1593 (1991)
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Tatsuo Okada 等人：“等离子体辅助化学气相沉积过程中薄膜的等离子体增强光电发射特性”，日本应用物理学杂志 30。L1591-L1593 (1991)
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