Thermal Degradation of HfSiON Dielectrics Caused by TiN Gate Electrodes and Its Impact on Electrical Properties
Thermal Degradation of HfSiON Dielectrics Caused by TiN Gate Electrodes and Its Impact on Electrical Properties
复制标题
TiN栅电极引起的HfSiON电介质的热降解及其对电性能的影响
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Watanabe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
尾崎 哲;他;H.Watanabe
