自己組織化単分子膜を用いたadhesion lithographyによるMoS2 FETの作製
自己組織化単分子膜を用いたadhesion lithographyによるMoS2 FETの作製
复制标题
使用自组装单层粘附光刻法制造 MoS2 FET
DOI：
--
复制
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
川那子 高暢，居駒 遼，Wanjing Du，小田 俊理
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Takamasa Kawanago and Shunri Oda;川那子 高暢，居駒 遼，Wanjing Du，小田 俊理
