Improved photoelectrical properties of n-ZnO/p-Si heterojunction by inserting an optimized thin Al2O3 buffer layer

Improved photoelectrical properties of n-ZnO/p-Si heterojunction by inserting an optimized thin Al2O3 buffer layer
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通过插入优化的薄 Al2O3 缓冲层改善 n-ZnO/p-Si 异质结的光电性能

DOI:
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发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
3.8
通讯作者:
Zhang, David Wei
Zhang, David Wei
中科院分区:
物理与天体物理2区
文献类型:
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作者:
Lu, Hong-Liang;Gu, Yu-Zhu;Zhang, Yuan;Liu, Xin-Yan;Wang, Peng-Fei;Sun, Qing-Qing;Ding, Shi-Jin;Zhang, David Wei

文献摘要

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