原子間力顕微鏡によるSiとGe表面での原子操作

原子間力顕微鏡によるSiとGe表面での原子操作
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使用原子力显微镜对 Si 和 Ge 表面进行原子操纵

DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
表面科学 第26巻 第6号
影响因子:
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通讯作者:
森田清三
森田清三
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Nakasone;Y.;Eitoku;T.;Zikihara;K.;Matsuoka;D.;Tokutomi;S.;Terazima;M.;森田清三

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