Fabrication of amorphous silicon nitride thin films by radio-frequency sputtering assisted by an inductively coupled plasma
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DOI：
10.1016/j.tsf.2017.01.022
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发表时间：
2017-02
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Y. Ishii;T. Kaneko;K. Okimura;H. Shindo;M. Isomura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Ishii;T. Kaneko;K. Okimura;H. Shindo;M. Isomura
