n型シリコン基板上の酸化タングステン極薄膜の5d軌道への電子蓄積
n型シリコン基板上の酸化タングステン極薄膜の5d軌道への電子蓄積
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n型硅衬底上超薄氧化钨薄膜5d轨道电子积累
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
和田雄二
中科院分区：
文献类型：
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作者：
岸本史直;松久将之;羽石直人;藤井知;椿俊太郎;鈴木榮一;和田雄二
