H.M.Jeon, C.M.Lee, A.Hatta, T.Ito, T.Sasaki and A.Hiraki: "Diamond nucleation on Si substrate over large area by ECR plasma CVD" Diamond Films and Technol.(submitted).
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H.M.Jeon、C.M.Lee、A.Hatta、T.Ito、T.Sasaki 和 A.Hiraki：“通过 ECR 等离子体 CVD 在大面积 Si 衬底上成核”金刚石薄膜和技术（已提交）。
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