フォトリソグラフィーを用いたPd複合膜の作製における樹脂基板の表面改質がPd層に及ぼす効果
フォトリソグラフィーを用いたPd複合膜の作製における樹脂基板の表面改質がPd層に及ぼす効果
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光刻法制备钯复合薄膜时树脂基体表面改性对钯层的影响
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
村瀬達也，宮本学，近江靖則，上宮成之，山田博史，田川智彦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
廣田 昌大;桧垣 正吾;伊藤 茂樹;石田 善行;高木 思野;寺尾 啓二;村瀬達也，宮本学，近江靖則，上宮成之，山田博史，田川智彦
