エキシマ光プロセスを用いたいた超平坦ポリマー基板上でのZnO薄膜の低温合成 と結晶配向化

エキシマ光プロセスを用いたいた超平坦ポリマー基板上でのZnO薄膜の低温合成 と結晶配向化
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使用准分子光刻工艺在超平坦聚合物基底上低温合成 ZnO 薄膜并进行晶体取向

DOI:
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发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
大賀友瑛・大島淳史・金子奈帆・金子智・松田晃史・吉本護
大賀友瑛・大島淳史・金子奈帆・金子智・松田晃史・吉本護
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Naho Kaneko;Yuto Maeda;Tomoaki Oga;Tomohiro Hayashi;Evan Angelo Quimada Mondarte;Satoru Kaneko;Akifumi Matsuda;and Mamoru Yoshimoto;大賀友瑛・金子奈帆・金子智・松田晃史・吉本護;金子奈帆・大賀友瑛・大島淳史・金子智・松田晃史・吉本護;大賀友瑛・大島淳史・金子奈帆・金子智・松田晃史・吉本護;大島淳史・大賀友瑛・金子奈帆・金子智・松田晃史・吉本護;大賀友瑛・金子奈帆・大島淳史・金子智・松田晃史・吉本護;金子奈帆・大賀友瑛・大島淳史・金子智・松田晃史・吉本護;大賀友瑛・大島淳史・金子奈帆・金子智・松田晃史・吉本護

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