Low temperature chemical vapor deposition of superconducting vanadium nitride thin films
Low temperature chemical vapor deposition of superconducting vanadium nitride thin films
复制标题
超导氮化钒薄膜的低温化学气相沉积
DOI：
10.1116/1.5088050
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发表时间：
2019
影响因子：
2.9
通讯作者：
Abelson, John R.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Mohimi, Elham;Zhang, Zhejun V.;Mallek, Justin L.;Liu, Sumeng;Trinh, Brian B.;Shetty, Pralav P.;Girolami, Gregory S.;Abelson, John R.
