基強磁性形状記憶薄帯の開発及び特性評価

基強磁性形状記憶薄帯の開発及び特性評価
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基础铁磁形状记忆带的研制及性能评价

DOI:
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发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
榎園正人
榎園正人
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
今村大輔;戸高孝;榎園正人

文献摘要

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