Reactive ion plating of TiO2

Reactive ion plating of TiO2
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TiO2反应离子镀

DOI:
10.1016/0042-207x(84)90144-1
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发表时间:
1984
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
M. I. Ridge
M. I. Ridge
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
R. Howson;K. Suzuki;Charles M. Bishop;M. I. Ridge

文献摘要

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