K.Nakamura他1名: "Control of Wall Plymer Deposition and Stabilization of Radical Density in Fluorocarbon Inductively-Coupled Plasmas"Int. Symp. Dry Process 2001 (November 2001, Japan). 213-218 (2001)
K.Nakamura他1名: "Control of Wall Plymer Deposition and Stabilization of Radical Density in Fluorocarbon Inductively-Coupled Plasmas"Int. Symp. Dry Process 2001 (November 2001, Japan). 213-218 (2001)
复制标题
K. Nakamura 等人 1：“氟碳感应耦合等离子体中的壁聚合物沉积和自由基密度的稳定”Int. Dry Process 2001（2001 年 11 月，日本）。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
