Functional thin film deposition using plasma-assisted reactive process
Functional thin film deposition using plasma-assisted reactive process
复制标题
使用等离子体辅助反应工艺沉积功能性薄膜
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Toshio Kamiya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kosuke Takenaka;Hiroyuki Hirayama;Yuichi Setsuhara;Keisuke Ide;Toshio Kamiya
