Electron and hole trapping in polycrystalline metal oxide materials (High Performance Computing special issue)(doi:10.1098/rspa.2010.0518)
Electron and hole trapping in polycrystalline metal oxide materials (High Performance Computing special issue)(doi:10.1098/rspa.2010.0518)
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多晶金属氧化物材料中的电子和空穴捕获（高性能计算特刊）(doi:10.1098/rspa.2010.0518)
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A.L.Shluger
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.P.McKenna;A.L.Shluger
