Theoretical Study on the Dependence of Acid Distribution on Material Properties of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists
Theoretical Study on the Dependence of Acid Distribution on Material Properties of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists
复制标题
酸分布对化学放大极紫外光刻胶材料性能依赖性的理论研究
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Shell
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Kozawa;S. Tagawa;M. Shell
