Fabrication of Magnetic Nanodot Array Using Nanoimprint Lithography : In Combination with Electrochemical Deposition or Ion Irradiation
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使用纳米压印光刻技术制造磁性纳米点阵列：与电化学沉积或离子辐照相结合
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他2名
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Homma;T.Ouchi;Y.Konishi;J.Mizuno;S.Shoji;他2名
