Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases
Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases
复制标题
由于源气体造成的非晶碳膜沉积过程的差异
DOI：
10.1016/j.tsf.2009.11.033
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
and T. Nakatani
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Shinohara;H. Kawazoe;T. Inayoshi;T. Kawakami;Y. Matsuda;H. Fujiyama;Y. Nitta;and T. Nakatani
