石島達夫, 菅井秀郎他1名: "Rare-gas based control of high density plasmas for silicon oxidation"Proceedings of 16th ESCAMPIG and 5th ICRP. 1巻. 325-326 (2002)
石島達夫, 菅井秀郎他1名: "Rare-gas based control of high density plasmas for silicon oxidation"Proceedings of 16th ESCAMPIG and 5th ICRP. 1巻. 325-326 (2002)
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Tatsuo Ishijima、Hideo Sugai 和其他 1 人：“基于稀有气体的硅氧化高密度等离子体控制”第 16 届 ESCAMIG 和第 5 届 ICRP 会议记录（2002 年）。
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