Y.Kawai: "Ultra-low-Temperature growth of high-integrity gate oxide films by low-energy ion-assisted oxidation" Appl.Phys.Lett.(印刷中).
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Y. Kawai：“通过低能离子辅助氧化实现高完整性栅极氧化膜的超低温生长”Appl.Phys.Lett.（出版中）。
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