T.Tsuboi, T.Sakka, and Y.H.Ogata: "Metal deposition into a porous silicon layer by immersion plating : Influence of halogen ions." Journal of Applied Physics. vol.83, no.8(印刷中). (1998)
T.Tsuboi, T.Sakka, and Y.H.Ogata: "Metal deposition into a porous silicon layer by immersion plating : Influence of halogen ions." Journal of Applied Physics. vol.83, no.8(印刷中). (1998)
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T.Tsuboi、T.Sakka 和 Y.H.Ogata：“通过浸镀将金属沉积到多孔硅层中：卤素离子的影响。”《应用物理学杂志》第 83 卷，第 8 期（出版中）。
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