Kiichi KAMIMURA: "Preparation of SiC Films by Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition Using SiCl_4." International Conference on Silicon Carbide and Related Materials. I-14 (1993)
Kiichi KAMIMURA: "Preparation of SiC Films by Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition Using SiCl_4." International Conference on Silicon Carbide and Related Materials. I-14 (1993)
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Kiichi KAMIMURA：“使用 SiCl_4 通过等离子体辅助化学气相沉积制备 SiC 薄膜。”
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